Remote Hydrogen Plasma Chemical Vapor Deposition of Silicon- Carbon Thin-Film Materials From a Hexamethyldisilane Source: Characterization of the Process and the Deposits

Wróbel, A. M.; Walkiewicz-Pietrzykowska, A.; Sapieha, Jolanta-Ewa; Hatanaka, Y.; Aoki, T.; Nakanishi, Y.; Wróbel, A. M.; Walkiewicz-Pietrzykowska, A.; Sapieha, Jolanta-Ewa; Hatanaka, Y.; Aoki, T.; Nakanishi, Y.

Remote Hydrogen Plasma Chemical Vapor Deposition of Silicon- Carbon Thin-Film Materials From a Hexamethyldisilane Source: Characterization of the Process and the Deposits

A. M. Wróbel, A. Walkiewicz-Pietrzykowska, Jolanta-Ewa Sapieha , Y. Hatanaka, T. Aoki, Y. Nakanishi

Article de revue (2002)

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Département:

Département de génie physique

Unité de recherche:

GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces

Organismes subventionnaires:

Polish State Committee for Scientific Research (KBN)

Numéro de subvention:

7T08C03118

Adresse URL de PolyPublie:

https://publications.polymtl.ca/26195/

Titre de la revue :

Journal of Applied Polymer Science ( vol. 86 , no 6 )

Maison d'édition:

Wiley

DOI:

10.1002/app.11304

URL officielle:

https://doi.org/10.1002/app.11304

OAI:

oai:publications.polymtl.ca:26195

ORCID

Date du dépôt:

18 avr. 2023 15:21

Dernière modification:

14 oct. 2026 13:01

Citer en APA 7:

Wróbel, A. M., Walkiewicz-Pietrzykowska, A., Sapieha, J.-E., Hatanaka, Y., Aoki, T., & Nakanishi, Y. (2002). Remote Hydrogen Plasma Chemical Vapor Deposition of Silicon- Carbon Thin-Film Materials From a Hexamethyldisilane Source: Characterization of the Process and the Deposits. Journal of Applied Polymer Science, 86(6), 1445-1458. https://doi.org/10.1002/app.11304

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