A surface analytical study of GaAs(100) cleaning procedures

Zhaoming Lu, C. Lagarde, Edward Sacher, John F. Currie et Arthur Yelon

Article de revue (1989)

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Département:	Département de génie physique
Centre de recherche:	GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/73523/
Titre de la revue:	Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films (vol. 7, no 3)
Maison d'édition:	American Institute of Physics
DOI:	10.1116/1.575859
URL officielle:	https://doi.org/10.1116/1.575859
Date du dépôt:	13 avr. 2026 14:23
Dernière modification:	13 avr. 2026 14:23

Citer en APA 7:	Lu, Z., Lagarde, C., Sacher, E., Currie, J. F., & Yelon, A. (1989). A surface analytical study of GaAs(100) cleaning procedures. Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films, 7(3), 646-650. https://doi.org/10.1116/1.575859
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