A surface analytical study of GaAs(100) cleaning procedures

Zhaoming Lu, C. Lagarde, Edward Sacher, John F. Currie, Arthur Yelon

Article de revue (1989)

Accéder à ce document
Lien externe
Ce document n'est pas archivé dans PolyPublie, mais peut être consulté chez l'éditeur officiel

Mots clés

Adresse URL de PolyPublie:
Titre de la revue :
Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films ( vol. 7 , no 3 )
Maison d'édition:
American Institute of Physics
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:73523
ORCID
Date du dépôt:
13 avr. 2026 14:23
Dernière modification:
14 oct. 2026 14:34
Citer en APA 7:
Lu, Z., Lagarde, C., Sacher, E., Currie, J. F., & Yelon, A. (1989). A surface analytical study of GaAs(100) cleaning procedures. Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films, 7(3), 646-650. https://doi.org/10.1116/1.575859

Statistiques

Dimensions

Actions réservées au personnel

Afficher document
Afficher document