Microactuateur électrothermique bistable : étude d'implémentation avec une technologie standard CMOS

Abstract

Les MEMS : des systèmes micro-électro-mécaniques -- La technologie de microfabrication de MEMS -- Domaines d'application du microactuateur bistable -- Conception et design du microactuateur électrothermique bistable -- Etat de l'art sur les microactuateurs -- Principe d'opération et innovation du microactuateur conçu -- Conception et design du microactuateur électrothermique bistable -- Conception de la microfabrication du dispositif en technologie CMOS -- Conception du dispositif dans une technologie standard CMOS -- Stratégie et techniques de micro-usinage utilisées en post-traitement -- Micro-usinage de l'actuateur : mesures, résultats et discussion -- Caractérisation des couches minces du procédé standard CMOS -- Étape l : Dépôt de motifs de platine par pulvérisation et lift-off -- Etape 2 : Gravure anisotrope du silicium au TMAH -- Etape 3 : Gravure isotrope du silicium au XeF2 -- Etape 4 : gravure de la couche de passivation au RIE -- Caractérisation, tests d'actuation et modélisation du microactuateur -- Déflexion initiale de la structure : caractérisation et modélisation -- Tests d'actuation et modélisation du microactuateur.

Uncontrolled Keywords

MEMS, Microactuateur électrothermique, Bistabilité, Procédé CMOS, Microusinage, Gravure anisotrope et isotrope, Structure en porte-à-faux, Multimorphe, Modélisation actuation thermique