Dual phase high temperature Si₃N₄/Al(Ti)N films with tunable thermal conductivity

Zhaohe Gao, Han Liu, Jinchi Sun, Justyna Kulczyk-Malecka, Xiaodong Liu, Etienne Bousser, Peter Kelly, Yu-Lung Chiu, Philip J. Withers et Ping Xiao

Article de revue (2025)

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Département:	Département de génie physique
Organismes subventionnaires:	Henry Royce Institute for Advanced Materials, EPSRC
Numéro de subvention:	EP/R00661X/1, EP/P025498/1, EP/P025021/1
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/71386/
Titre de la revue:	Nature Communications (vol. 16, no 1)
Maison d'édition:	Nature Portfolio
DOI:	10.1038/s41467-025-67582-y
URL officielle:	https://doi.org/10.1038/s41467-025-67582-y
Date du dépôt:	12 janv. 2026 15:02
Dernière modification:	12 janv. 2026 15:02

Citer en APA 7:	Gao, Z., Liu, H., Sun, J., Kulczyk-Malecka, J., Liu, X., Bousser, E., Kelly, P., Chiu, Y.-L., Withers, P. J., & Xiao, P. (2025). Dual phase high temperature Si₃N₄/Al(Ti)N films with tunable thermal conductivity. Nature Communications, 16(1), 11555. https://doi.org/10.1038/s41467-025-67582-y
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