Dual phase high temperature Si₃N₄/Al(Ti)N films with tunable thermal conductivity

Gao, Zhaohe; Liu, Han; Sun, Jinchi; Kulczyk-Malecka, Justyna; Liu, Xiaodong; Bousser, Etienne; Kelly, Peter; Chiu, Yu-Lung; Withers, Philip J.; Xiao, Ping; Gao, Zhaohe; Liu, Han; Sun, Jinchi; Kulczyk-Malecka, Justyna; Liu, Xiaodong; Bousser, Etienne; Kelly, Peter; Chiu, Yu-Lung; Withers, Philip J.; Xiao, Ping

Dual phase high temperature Si₃N₄/Al(Ti)N films with tunable thermal conductivity

Zhaohe Gao, Han Liu, Jinchi Sun, Justyna Kulczyk-Malecka, Xiaodong Liu, Etienne Bousser, Peter Kelly, Yu-Lung Chiu, Philip J. Withers, Ping Xiao

Article de revue (2025)

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Mots clés

Département:

Département de génie physique

Organismes subventionnaires:

Henry Royce Institute for Advanced Materials, EPSRC

Numéro de subvention:

EP/R00661X/1, EP/P025498/1, EP/P025021/1

Adresse URL de PolyPublie:

https://publications.polymtl.ca/71386/

Titre de la revue :

Nature Communications ( vol. 16 , no 1 )

Maison d'édition:

Nature Portfolio

DOI:

10.1038/s41467-025-67582-y

URL officielle:

https://doi.org/10.1038/s41467-025-67582-y

OAI:

oai:publications.polymtl.ca:71386

ORCID

Date du dépôt:

12 janv. 2026 15:02

Dernière modification:

14 oct. 2026 14:32

Citer en APA 7:

Gao, Z., Liu, H., Sun, J., Kulczyk-Malecka, J., Liu, X., Bousser, E., Kelly, P., Chiu, Y.-L., Withers, P. J., & Xiao, P. (2025). Dual phase high temperature Si₃N₄/Al(Ti)N films with tunable thermal conductivity. Nature Communications, 16(1), 11555. https://doi.org/10.1038/s41467-025-67582-y

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