Magnetron etching of GaAs: Etch characteristics and surface characterization

M. Meyyappan, G. F. McLane, M. W. Cole, R. Laraeu, M. Namaroff, J. N. Sasserath et Chetlur S. Sundararaman

Article de revue (1992)

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Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/70925/
Titre de la revue:	Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films (vol. 10, no 4)
Maison d'édition:	American Institute of Physics
DOI:	10.1116/1.578217
URL officielle:	https://doi.org/10.1116/1.578217
Date du dépôt:	18 déc. 2025 15:45
Dernière modification:	18 déc. 2025 15:45

Citer en APA 7:	Meyyappan, M., McLane, G. F., Cole, M. W., Laraeu, R., Namaroff, M., Sasserath, J. N., & Sundararaman, C. S. (1992). Magnetron etching of GaAs: Etch characteristics and surface characterization. Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films, 10(4), 1147-1151. https://doi.org/10.1116/1.578217
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