M. Meyyappan, G. F. McLane, M. W. Cole, R. Laraeu, M. Namaroff, J. N. Sasserath, Chetlur S. Sundararaman
Article de revue (1992)
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Titre de la revue
:
Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films
(
vol.
10
,
no
4
)
Maison d'édition:
American Institute of Physics
DOI:
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:70925
ORCID
Date du dépôt:
18 déc. 2025 15:45
Dernière modification:
14 oct. 2026 14:31
Citer en APA 7:
Meyyappan, M., McLane, G. F., Cole, M. W., Laraeu, R., Namaroff, M., Sasserath, J. N., & Sundararaman, C. S. (1992). Magnetron etching of GaAs: Etch characteristics and surface characterization. Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films, 10(4), 1147-1151. https://doi.org/10.1116/1.578217
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