Kinetics of the room-temperature air oxidation of hydrogenated amorphous silicon and crystalline silicon

Z. H. Lu, Edward Sacher et Arthur Yelon

Article de revue (1988)

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Département:	Département de génie physique
Centre de recherche:	GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/69724/
Titre de la revue:	Philosophical Magazine B (vol. 58, no 4)
Maison d'édition:	Taylor & Francis
DOI:	10.1080/13642818808218381
URL officielle:	https://doi.org/10.1080/13642818808218381
Date du dépôt:	24 nov. 2025 14:27
Dernière modification:	24 nov. 2025 14:27

Citer en APA 7:	Lu, Z. H., Sacher, E., & Yelon, A. (1988). Kinetics of the room-temperature air oxidation of hydrogenated amorphous silicon and crystalline silicon. Philosophical Magazine B, 58(4), 385-388. https://doi.org/10.1080/13642818808218381
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