Z. H. Lu, Edward Sacher, Arthur Yelon
Article de revue (1988)
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Titre de la revue
:
Philosophical Magazine B
(
vol.
58
,
no
4
)
Maison d'édition:
Taylor & Francis
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:69724
ORCID
Date du dépôt:
24 nov. 2025 14:27
Dernière modification:
14 oct. 2026 14:30
Citer en APA 7:
Lu, Z. H., Sacher, E., & Yelon, A. (1988). Kinetics of the room-temperature air oxidation of hydrogenated amorphous silicon and crystalline silicon. Philosophical Magazine B, 58(4), 385-388. https://doi.org/10.1080/13642818808218381
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