The presence of silane gas in plasma-deposited hydrogenated amorphous silicon

T. Bekkay, Ricardo Izquierdo, M. St-Denis, Edward Sacher et Arthur Yelon

Article de revue (1989)

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Département:	Département de génie physique
Centre de recherche:	GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/69588/
Titre de la revue:	Surface Science (vol. 222, no 2-3)
Maison d'édition:	Elsevier BV
DOI:	10.1016/0039-6028(89)90352-x
URL officielle:	https://doi.org/10.1016/0039-6028%2889%2990352-x
Date du dépôt:	25 nov. 2025 15:46
Dernière modification:	25 nov. 2025 15:46

Citer en APA 7:	Bekkay, T., Izquierdo, R., St-Denis, M., Sacher, E., & Yelon, A. (1989). The presence of silane gas in plasma-deposited hydrogenated amorphous silicon. Surface Science, 222(2-3), L831-L836. https://doi.org/10.1016/0039-6028%2889%2990352-x
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