T. Bekkay, Ricardo Izquierdo, M. St-Denis, Edward Sacher, Arthur Yelon
Article de revue (1989)
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Titre de la revue
:
Surface Science
(
vol.
222
,
no
2-3
)
Maison d'édition:
Elsevier BV
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:69588
ORCID
Date du dépôt:
25 nov. 2025 15:46
Dernière modification:
14 oct. 2026 14:30
Citer en APA 7:
Bekkay, T., Izquierdo, R., St-Denis, M., Sacher, E., & Yelon, A. (1989). The presence of silane gas in plasma-deposited hydrogenated amorphous silicon. Surface Science, 222(2-3), L831-L836. https://doi.org/10.1016/0039-6028%2889%2990352-x
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