Quantitative infrared characterization of plasma enhanced CVD silicon oxynitride films

J. C. Rostaing, Y. Cros, Subhash C. Gujrathi et Samuel Poulain

Article de revue (1987)

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Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/69558/
Titre de la revue:	Journal of Non-Crystalline Solids (vol. 97-98)
Maison d'édition:	Elsevier BV
DOI:	10.1016/0022-3093(87)90252-3
URL officielle:	https://doi.org/10.1016/0022-3093%2887%2990252-3
Date du dépôt:	26 nov. 2025 11:20
Dernière modification:	26 nov. 2025 11:20

Citer en APA 7:	Rostaing, J. C., Cros, Y., Gujrathi, S. C., & Poulain, S. (1987). Quantitative infrared characterization of plasma enhanced CVD silicon oxynitride films. Journal of Non-Crystalline Solids, 97-98, 1051-1054. https://doi.org/10.1016/0022-3093%2887%2990252-3
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