Quantitative infrared characterization of plasma enhanced CVD silicon oxynitride films

Rostaing, J. C.; Cros, Y.; Gujrathi, Subhash C.; Poulain, Samuel; Rostaing, J. C.; Cros, Y.; Gujrathi, Subhash C.; Poulain, Samuel

Quantitative infrared characterization of plasma enhanced CVD silicon oxynitride films

J. C. Rostaing, Y. Cros, Subhash C. Gujrathi, Samuel Poulain

Article de revue (1987)

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Département:

Département de génie physique

Adresse URL de PolyPublie:

https://publications.polymtl.ca/69558/

Titre de la revue :

Journal of Non-Crystalline Solids ( vol. 97-98 )

Maison d'édition:

Elsevier BV

DOI:

10.1016/0022-3093(87)90252-3

URL officielle:

https://doi.org/10.1016/0022-3093%2887%2990252-3

OAI:

oai:publications.polymtl.ca:69558

ORCID

Date du dépôt:

26 nov. 2025 11:20

Dernière modification:

14 oct. 2026 14:30

Citer en APA 7:

Rostaing, J. C., Cros, Y., Gujrathi, S. C., & Poulain, S. (1987). Quantitative infrared characterization of plasma enhanced CVD silicon oxynitride films. Journal of Non-Crystalline Solids, 97-98, 1051-1054. https://doi.org/10.1016/0022-3093%2887%2990252-3

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