Caractérisation et enlèvement de la contamination métallique à l'endos des pastilles de silicium

Abstract

Problématique de la contamination en micro-électronique -- La contamination métallique à l'endos des pastilles -- La contamination métallique en micro-électronique -- Sources de contamination métallique -- Contamination métalliques dans le silicium -- Le nettoyage en micro-électronique -- Nettoyage conventionnel en milieu liquide -- Nettoyage à sec -- Nettoyage par laser -- Caractérisation du transfert de la contamination métallique lors de la manipulation des pastilles -- Méthodologie -- Appareils caractérisés -- Transfert de la contamination métallique -- Transfert de particules -- Contamination inhérent à la caractérisation elle-même -- Effet de la morphologie de surface sur le transfert de contamination métallique -- Vérification de l'efficacité des nettoyages conventionnels -- Nettoyage de l'endos du silicium -- Nettoyage de différents surfaces recouvertes de couches minces -- Contamination inhérente à la caractérisation et signaux parasites -- Nettoyage de l'endos du silicium -- Surface recouverte de polysilicium -- Surfaces recouvertes d'oxyde et de nitrure de silicium -- Nettoyage par laser excimère -- Méthodologie -- Caractérisation du transfert de la contamination métallique lors de la manipulation des pastilles.