Boris Lamontagne et Michael R. Wertheimer
Communication écrite (1989)
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| Département: | Département de génie physique |
|---|---|
| Centre de recherche: | GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/66771/ |
| Nom de la conférence: | 9th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC 1989) |
| Lieu de la conférence: | Pugnochiuso, Italy |
| Date(s) de la conférence: | 1989-09-04 - 1989-09-08 |
| URL officielle: | https://www.ispc-conference.org/ispcdocs/ispc9/con... |
| Date du dépôt: | 29 juil. 2025 15:45 |
| Dernière modification: | 29 juil. 2025 15:45 |
| Citer en APA 7: | Lamontagne, B., & Wertheimer, M. R. (septembre 1989). Microwave and radiofrequency O₂/CF₄ plasma etching of commercial polymers [Communication écrite]. 9th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC 1989), Pugnochiuso, Italy. https://www.ispc-conference.org/ispcdocs/ispc9/content/9/09-1045.pdf |
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