Boris Lamontagne, Michael R. Wertheimer
Communication écrite (1989)
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Nom de la conférence:
9th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC 1989)
Lieu de la conférence:
Pugnochiuso, Italy
Date(s) de la conférence:
1989-09-04 - 1989-09-08
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:66771
ORCID
Date du dépôt:
29 juil. 2025 15:45
Dernière modification:
14 oct. 2026 14:28
Citer en APA 7:
Lamontagne, B., & Wertheimer, M. R. (septembre 1989). Microwave and radiofrequency O₂/CF₄ plasma etching of commercial polymers [Communication écrite]. 9th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC 1989), Pugnochiuso, Italy. https://www.ispc-conference.org/ispcdocs/ispc9/content/9/09-1045.pdf
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