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The effect of bias and temperature on the deposition of Au-containing plasma polymerized fluoroethane

V. Pische, Ludvik Martinu et R. d'Agostino

Communication écrite (1989)

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Département: Département de génie physique
Centre de recherche: GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/66770/
Nom de la conférence: 9th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC 1989)
Lieu de la conférence: Pugnochiuso, Italy
Date(s) de la conférence: 1989-09-04 - 1989-09-08
URL officielle: https://www.ispc-conference.org/ispcdocs/ispc9/con...
Date du dépôt: 29 juil. 2025 15:48
Dernière modification: 29 juil. 2025 15:50
Citer en APA 7: Pische, V., Martinu, L., & d'Agostino, R. (septembre 1989). The effect of bias and temperature on the deposition of Au-containing plasma polymerized fluoroethane [Communication écrite]. 9th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC 1989), Pugnochiuso, Italy. https://www.ispc-conference.org/ispcdocs/ispc9/content/9/09-1201.pdf

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