Comparison of two new microwave plasma sources for HF chemical lasers

Lionel Bertrand, Jean-Marie Gagné, Rénato Bosisio et Michel Moisan

Article de revue (1978)

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Renseignements supplémentaires:	Laboratoire d'Optique et de Spectroscopie
Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/62838/
Titre de la revue:	IEEE Journal of Quantum Electronics (vol. 14, no 1)
Maison d'édition:	IEEE Photonics Society
DOI:	10.1109/jqe.1978.1069660
URL officielle:	https://doi.org/10.1109/jqe.1978.1069660
Date du dépôt:	21 févr. 2025 10:16
Dernière modification:	08 avr. 2025 07:31

Citer en APA 7:	Bertrand, L., Gagné, J.-M., Bosisio, R., & Moisan, M. (1978). Comparison of two new microwave plasma sources for HF chemical lasers. IEEE Journal of Quantum Electronics, 14(1), 8-11. https://doi.org/10.1109/jqe.1978.1069660
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