Lionel Bertrand, Jean-Marie Gagné
, Rénato Bosisio et Michel Moisan
Article de revue (1978)
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| Renseignements supplémentaires: | Laboratoire d'Optique et de Spectroscopie |
|---|---|
| Département: | Département de génie physique |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/62838/ |
| Titre de la revue: | IEEE Journal of Quantum Electronics (vol. 14, no 1) |
| Maison d'édition: | IEEE Photonics Society |
| DOI: | 10.1109/jqe.1978.1069660 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1109/jqe.1978.1069660 |
| Date du dépôt: | 21 févr. 2025 10:16 |
| Dernière modification: | 08 avr. 2025 07:31 |
| Citer en APA 7: | Bertrand, L., Gagné, J.-M., Bosisio, R., & Moisan, M. (1978). Comparison of two new microwave plasma sources for HF chemical lasers. IEEE Journal of Quantum Electronics, 14(1), 8-11. https://doi.org/10.1109/jqe.1978.1069660 |
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