Comparison of two new microwave plasma sources for HF chemical lasers

Lionel Bertrand, Jean-Marie Gagné, Rénato Bosisio, Michel Moisan

Article de revue (1978)

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Renseignements supplémentaires:
Laboratoire d'Optique et de Spectroscopie
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Titre de la revue :
IEEE Journal of Quantum Electronics ( vol. 14 , no 1 )
Maison d'édition:
IEEE Photonics Society
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:62838
ORCID
Date du dépôt:
21 févr. 2025 10:16
Dernière modification:
14 oct. 2026 14:23
Citer en APA 7:
Bertrand, L., Gagné, J.-M., Bosisio, R., & Moisan, M. (1978). Comparison of two new microwave plasma sources for HF chemical lasers. IEEE Journal of Quantum Electronics, 14(1), 8-11. https://doi.org/10.1109/jqe.1978.1069660

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