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Construction of NiO and Ti3+ self-doped TNTs thin film as a high quantum yield p-n type heterojunction via a novel photoelectrodeposition-assisted anodization method

Javad Vahabzadeh Pasikhani, Bahareh Ghorbani Aliabadi, Neda Gilani et Azadeh Ebrahimian Pirbazari

Article de revue (2021)

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Département: Département de génie chimique
Centre de recherche: PEARL - Laboratoire de recherche avancée en génie des procédés
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/49443/
Titre de la revue: Journal of Photochemistry and Photobiology a-Chemistry (vol. 418)
Maison d'édition: Elsevier
DOI: 10.1016/j.jphotochem.2021.113433
URL officielle: https://doi.org/10.1016/j.jphotochem.2021.113433
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:00
Dernière modification: 05 avr. 2024 11:52
Citer en APA 7: Pasikhani, J. V., Aliabadi, B. G., Gilani, N., & Pirbazari, A. E. (2021). Construction of NiO and Ti3+ self-doped TNTs thin film as a high quantum yield p-n type heterojunction via a novel photoelectrodeposition-assisted anodization method. Journal of Photochemistry and Photobiology a-Chemistry, 418, 113433 (15 pages). https://doi.org/10.1016/j.jphotochem.2021.113433

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