Prismatic Ge-rich inclusions in the hexagonal SiGe shell of GaP-Si-SiGe nanowires by controlled faceting

Roberto Bergamaschini, Rianne C. Plantenga, Marco Albani, Emilio Scalise, Yizhen Ren, Håkon Ikaros T. Hauge, Sebastian Koelling, Francesco Montalenti, Erik P. A. M. Bakkers, Marcel A. Verheijen, Leonida Miglio

Article de revue (2021)

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Titre de la revue :
Nanoscale ( vol. 13 , no 20 )
Maison d'édition:
The Royal Society of Chemistry
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:47309
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 14:59
Dernière modification:
14 oct. 2026 14:01
Citer en APA 7:
Bergamaschini, R., Plantenga, R. C., Albani, M., Scalise, E., Ren, Y., Hauge, H. I. T., Koelling, S., Montalenti, F., Bakkers, E. P. A. M., Verheijen, M. A., & Miglio, L. (2021). Prismatic Ge-rich inclusions in the hexagonal SiGe shell of GaP-Si-SiGe nanowires by controlled faceting. Nanoscale, 13(20), 9436-9445. https://doi.org/10.1039/d0nr08051a

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