Alessio Aufoujal, Ulrich Legrand, Jean-Luc Meunier et Jason Robert Tavares
Article de revue (2020)
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| Département: | Département de génie chimique |
|---|---|
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/45975/ |
| Titre de la revue: | Catalysts (vol. 10, no 5) |
| Maison d'édition: | MDPI |
| DOI: | 10.3390/catal10050534 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.3390/catal10050534 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:00 |
| Dernière modification: | 05 avr. 2024 11:45 |
| Citer en APA 7: | Aufoujal, A., Legrand, U., Meunier, J.-L., & Tavares, J. R. (2020). Suppression of Hydrophobic Recovery in Photo-Initiated Chemical Vapor Deposition. Catalysts, 10(5), 534 (17 pages). https://doi.org/10.3390/catal10050534 |
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