Alessio Aufoujal, Ulrich Legrand, Jean-Luc Meunier, Jason Robert Tavares
Article de revue (2020)
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Titre de la revue
:
Catalysts
(
vol.
10
,
no
5
)
Maison d'édition:
MDPI
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:45975
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:00
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:59
Citer en APA 7:
Aufoujal, A., Legrand, U., Meunier, J.-L., & Tavares, J. R. (2020). Suppression of Hydrophobic Recovery in Photo-Initiated Chemical Vapor Deposition. Catalysts, 10(5), 534 (17 pages). https://doi.org/10.3390/catal10050534
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