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Suppression of Hydrophobic Recovery in Photo-Initiated Chemical Vapor Deposition

Alessio Aufoujal, Ulrich Legrand, Jean-Luc Meunier et Jason Robert Tavares

Article de revue (2020)

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Département: Département de génie chimique
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/45975/
Titre de la revue: Catalysts (vol. 10, no 5)
Maison d'édition: MDPI
DOI: 10.3390/catal10050534
URL officielle: https://doi.org/10.3390/catal10050534
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:00
Dernière modification: 25 sept. 2024 16:34
Citer en APA 7: Aufoujal, A., Legrand, U., Meunier, J.-L., & Tavares, J. R. (2020). Suppression of Hydrophobic Recovery in Photo-Initiated Chemical Vapor Deposition. Catalysts, 10(5), 534 (17 pages). https://doi.org/10.3390/catal10050534

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