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Suppression of hydrophobic recovery in Photo-Initiated Chemical Vapor Deposition treated surfaces for atmospheric water generation

A. Aufoujal, J. L. Meunier et Jason Robert Tavares

Présentation (2019)

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Département: Département de génie chimique
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/45550/
Nom de la conférence: 69th Canadian Chemical Engineering Conference (CSChE Conferences 2019)
Lieu de la conférence: Halifax, NS, CA
Date(s) de la conférence: 2019-10-20 - 2019-10-23
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:01
Dernière modification: 05 avr. 2024 11:45
Citer en APA 7: Aufoujal, A., Meunier, J. L., & Tavares, J. R. (octobre 2019). Suppression of hydrophobic recovery in Photo-Initiated Chemical Vapor Deposition treated surfaces for atmospheric water generation [Présentation]. Dans 69th Canadian Chemical Engineering Conference (CSChE Conferences 2019), Halifax, NS, CA.

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