Alessio Aufoujal, Jean-Luc Meunier, Jason Robert Tavares
Présentation (2019)
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Département:
Adresse URL de PolyPublie:
Nom de la conférence:
69th Canadian Chemical Engineering Conference (CSChE Conferences 2019)
Lieu de la conférence:
Halifax, NS, CA
Date(s) de la conférence:
2019-10-20 - 2019-10-23
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:45550
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:01
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:58
Citer en APA 7:
Aufoujal, A., Meunier, J.-L., & Tavares, J. R. (octobre 2019). Suppression of hydrophobic recovery in Photo-Initiated Chemical Vapor Deposition treated surfaces for atmospheric water generation [Présentation]. Dans 69th Canadian Chemical Engineering Conference (CSChE Conferences 2019), Halifax, NS, CA. https://www.xcdsystem.com/cic/program/Ka59Ngt/index.cfm?pgid=1382&sid=15422&abid=42716
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