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Thermally activated diffusion and lattice relaxation in (Si)GeSn materials

Nils von den Driesch, Stephan Wirths, Rene Troitsch, Gregor Mussler, Uwe Breuer, Oussama Moutanabbir, Detlev Grutzmacher et Dan Buca

Article de revue (2020)

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Département: Département de génie physique
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/45327/
Titre de la revue: Physical Review Materials (vol. 4, no 3)
Maison d'édition: American Physical Society
DOI: 10.1103/physrevmaterials.4.033604
URL officielle: https://doi.org/10.1103/physrevmaterials.4.033604
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:01
Dernière modification: 25 sept. 2024 16:33
Citer en APA 7: von den Driesch, N., Wirths, S., Troitsch, R., Mussler, G., Breuer, U., Moutanabbir, O., Grutzmacher, D., & Buca, D. (2020). Thermally activated diffusion and lattice relaxation in (Si)GeSn materials. Physical Review Materials, 4(3), 033604 (6 pages). https://doi.org/10.1103/physrevmaterials.4.033604

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