Microstructural origin of compressive in situ stresses in electron-gun-evaporated silica thin films

Simon Gelin, Delphine Poinot, Sebastien Chatel, Pierre-Jean Calba, Anael Lemaitre

Article de revue (2019)

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Titre de la revue :
Physical Review Materials ( vol. 3 , no 5 )
Maison d'édition:
American Physical Society
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:43634
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:01
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:55
Citer en APA 7:
Gelin, S., Poinot, D., Chatel, S., Calba, P.-J., & Lemaitre, A. (2019). Microstructural origin of compressive in situ stresses in electron-gun-evaporated silica thin films. Physical Review Materials, 3(5), 055608 (19 pages). https://doi.org/10.1103/physrevmaterials.3.055608

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