Houssem Kallel, Normand Mousseau
et François Schiettekatte
Article de revue (2010)
Document publié alors que les auteurs ou autrices n'étaient pas affiliés à Polytechnique Montréal
Un lien externe est disponible pour ce document
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/41401/ |
|---|---|
| Titre de la revue: | Physical Review Letters (vol. 105, no 4) |
| Maison d'édition: | American Physical Society |
| DOI: | 10.1103/physrevlett.105.045503 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1103/physrevlett.105.045503 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:13 |
| Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:27 |
| Citer en APA 7: | Kallel, H., Mousseau, N., & Schiettekatte, F. (2010). Evolution of the Potential-Energy Surface of Amorphous Silicon. Physical Review Letters, 105(4), 045503 (4 pages). https://doi.org/10.1103/physrevlett.105.045503 |
|---|---|
Statistiques
Dimensions
Actions réservées au personnel
|
Afficher document |
