Incorporation of Si during vapor phase epitaxy of III-V compounds: evidence of an enthalpy-entropy compensation effect

Rémo A. Masut

Article de revue (2018)

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Département:	Département de génie physique
Centre de recherche:	RQMP - Regroupement québécois sur les matériaux de pointe
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/41323/
Titre de la revue:	Journal of Applied Physics (vol. 124, no 9)
Maison d'édition:	AIP Publishing
DOI:	10.1063/1.5031106
URL officielle:	https://doi.org/10.1063/1.5031106
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:03
Dernière modification:	27 sept. 2024 09:41

Citer en APA 7:	Masut, R. A. (2018). Incorporation of Si during vapor phase epitaxy of III-V compounds: evidence of an enthalpy-entropy compensation effect. Journal of Applied Physics, 124(9), 7 pages. https://doi.org/10.1063/1.5031106
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