Ab initio characterization of arsenic vacancy diffusion pathways in GaAs with SIEST-A-RT

F. El-Mellouhi, Normand Mousseau

Article de revue (2007)

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Titre de la revue :
Applied Physics A-Materials Science & Processing ( vol. 86 , no 3 )
Maison d'édition:
Springer
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:41164
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:16
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:51
Citer en APA 7:
El-Mellouhi, F., & Mousseau, N. (2007). Ab initio characterization of arsenic vacancy diffusion pathways in GaAs with SIEST-A-RT. Applied Physics A-Materials Science & Processing, 86(3), 309-312. https://doi.org/10.1007/s00339-006-3761-3

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