<  Retour au portail Polytechnique Montréal

Ab initio characterization of arsenic vacancy diffusion pathways in GaAs with SIEST-A-RT

F. El-Mellouhi et Normand Mousseau

Article de revue (2007)

Document publié alors que les auteurs ou autrices n'étaient pas affiliés à Polytechnique Montréal

Un lien externe est disponible pour ce document
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/41164/
Titre de la revue: Applied Physics A-Materials Science & Processing (vol. 86, no 3)
Maison d'édition: Springer
DOI: 10.1007/s00339-006-3761-3
URL officielle: https://doi.org/10.1007/s00339-006-3761-3
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:16
Dernière modification: 25 sept. 2024 16:27
Citer en APA 7: El-Mellouhi, F., & Mousseau, N. (2007). Ab initio characterization of arsenic vacancy diffusion pathways in GaAs with SIEST-A-RT. Applied Physics A-Materials Science & Processing, 86(3), 309-312. https://doi.org/10.1007/s00339-006-3761-3

Statistiques

Dimensions

Actions réservées au personnel

Afficher document Afficher document