Michael R. Wertheimer
et M. Moisan
Article de revue (1985)
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| Département: | Département de génie physique |
|---|---|
| Centre de recherche: | GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/38244/ |
| Titre de la revue: | Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films (vol. 3, no 6) |
| Maison d'édition: | American Vacuum Society |
| DOI: | 10.1116/1.572805 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1116/1.572805 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:26 |
| Dernière modification: | 08 avr. 2025 07:01 |
| Citer en APA 7: | Wertheimer, M. R., & Moisan, M. (1985). Comparison of microwave and lower frequency plasmas for thin film deposition and etching. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 3(6), 2643-2649. https://doi.org/10.1116/1.572805 |
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