Comparison of microwave and lower frequency plasmas for thin film deposition and etching

Michael R. Wertheimer et M. Moisan

Article de revue (1985)

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Département:	Département de génie physique
Centre de recherche:	GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/38244/
Titre de la revue:	Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films (vol. 3, no 6)
Maison d'édition:	American Vacuum Society
DOI:	10.1116/1.572805
URL officielle:	https://doi.org/10.1116/1.572805
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:26
Dernière modification:	25 sept. 2024 16:22

Citer en APA 7:	Wertheimer, M. R., & Moisan, M. (1985). Comparison of microwave and lower frequency plasmas for thin film deposition and etching. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 3(6), 2643-2649. https://doi.org/10.1116/1.572805
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