Yves Tessier, Jolanta-Ewa Sapieha
, S. Poulin-Dandurand et Michael R. Wertheimer
Article de revue (2011)
Un lien externe est disponible pour ce document
| Département: | Département de génie physique |
|---|---|
| Centre de recherche: | GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/38234/ |
| Titre de la revue: | MRS Proceedings (vol. 68) |
| Maison d'édition: | Cambridge University Press |
| DOI: | 10.1557/proc-68-183 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1557/proc-68-183 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:12 |
| Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:22 |
| Citer en APA 7: | Tessier, Y., Sapieha, J.-E., Poulin-Dandurand, S., & Wertheimer, M. R. (2011). Silicon Nitride from Microwave Plasma: Fabrication and Characterization. MRS Proceedings, 68. https://doi.org/10.1557/proc-68-183 |
|---|---|
Statistiques
Dimensions
Actions réservées au personnel
|
Afficher document |
