Plasma-assisted etching of paper

S. Sapieha, A. M. Wrobel et Michael R. Wertheimer

Article de revue (1988)

Un lien externe est disponible pour ce document

Département:	Département de génie physique
URL de PolyPublie:	https://publications.polymtl.ca/38225/
Titre de la revue:	Plasma Chemistry and Plasma Processing (vol. 8, no 3)
Maison d'édition:	Springer
DOI:	10.1007/bf01020410
URL officielle:	https://doi.org/10.1007/bf01020410
Date du dépôt:	18 avr. 2023 15:26
Dernière modification:	25 sept. 2024 16:22

Citer en APA 7:	Sapieha, S., Wrobel, A. M., & Wertheimer, M. R. (1988). Plasma-assisted etching of paper. Plasma Chemistry and Plasma Processing, 8(3), 331-346. https://doi.org/10.1007/bf01020410
APA 7 (HTML)ASCII CitationAtomBibTeXDOIsDublin CoreEndNote (.ENW)MARC (ISO 2709/UTF-8) (.MRC)MARC (UTF-8) (.MRK8)MARC XMLMPEG-21 DIDLMultiline CSVOAI-ORE Resource Map (Atom Format)OPENAIREOpenURL ContextObjectOpenURL ContextObject in SpanRDF+N-TriplesRDF+N3RDF+XMLReferReference Manager (.RIS)Répertoire des publications (EndNote)Simple Metadata

Statistiques

Actions réservées au personnel