B. Lamontagne, Edward Sacher et Michael R. Wertheimer
Article de revue (1992)
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| Département: | Département de génie physique |
|---|---|
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/38188/ |
| Titre de la revue: | Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films (vol. 10, no 4) |
| Maison d'édition: | American Vacuum Society |
| DOI: | 10.1116/1.578193 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1116/1.578193 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:26 |
| Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:22 |
| Citer en APA 7: | Lamontagne, B., Sacher, E., & Wertheimer, M. R. (1992). Amorphization of c‐Si by the sputter deposition of Au studied by x‐ray photoelectron diffraction. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 10(4), 1002-1005. https://doi.org/10.1116/1.578193 |
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