B. Lamontagne, O. M. Küttel et Michael R. Wertheimer
Article de revue (1991)
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| Département: | Département de génie physique |
|---|---|
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/38186/ |
| Titre de la revue: | Canadian Journal of Physics (vol. 69, no 3-4) |
| Maison d'édition: | Canadian Science Publishing |
| DOI: | 10.1139/p91-033 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1139/p91-033 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:26 |
| Dernière modification: | 05 avr. 2024 11:32 |
| Citer en APA 7: | Lamontagne, B., Küttel, O. M., & Wertheimer, M. R. (1991). Etching of polymers in microwave/radio-frequency O2-CF4 plasma. Canadian Journal of Physics, 69(3-4), 202-206. https://doi.org/10.1139/p91-033 |
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