Compositional characterization of microwave plasma a-Si: H films

John F. Currie, P. Depelsenaire, J. P. Huot, L. Paquin, Michael R. Wertheimer, Arthur Yelon, C. Brassard, J. L'Ecuyer, R. Groleau, J. P. Martin

Article de revue (1983)

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Titre de la revue :
Canadian Journal of Physics ( vol. 61 , no 4 )
Maison d'édition:
Canadian Science Publishing
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:38151
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Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:26
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:29
Citer en APA 7:
Currie, J. F., Depelsenaire, P., Huot, J. P., Paquin, L., Wertheimer, M. R., Yelon, A., Brassard, C., L'Ecuyer, J., Groleau, R., & Martin, J. P. (1983). Compositional characterization of microwave plasma a-Si: H films. Canadian Journal of Physics, 61(4), 582-590. https://doi.org/10.1139/p83-073

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