John F. Currie, P. Depelsenaire, J. P. Huot, L. Paquin, Michael R. Wertheimer, Arthur Yelon
, C. Brassard, J. L'Ecuyer, R. Groleau et J. P. Martin
Article de revue (1983)
Un lien externe est disponible pour ce documentDépartement: | Département de génie physique |
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URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/38151/ |
Titre de la revue: | Canadian Journal of Physics (vol. 61, no 4) |
Maison d'édition: | Canadian Science Publishing |
DOI: | 10.1139/p83-073 |
URL officielle: | https://doi.org/10.1139/p83-073 |
Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:26 |
Dernière modification: | 05 avr. 2024 11:32 |
Citer en APA 7: | Currie, J. F., Depelsenaire, P., Huot, J. P., Paquin, L., Wertheimer, M. R., Yelon, A., Brassard, C., L'Ecuyer, J., Groleau, R., & Martin, J. P. (1983). Compositional characterization of microwave plasma a-Si: H films. Canadian Journal of Physics, 61(4), 582-590. https://doi.org/10.1139/p83-073 |
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