A. P. Blanchard-Dionne, Michel Meunier
Article de revue (2015)
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Département:
Adresse URL de PolyPublie:
Titre de la revue
:
Journal of Vacuum Science & Technology B: Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
(
vol.
33
,
no
6
)
Maison d'édition:
American Vacuum Society
DOI:
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:34397
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:06
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:23
Citer en APA 7:
Blanchard-Dionne, A. P., & Meunier, M. (2015). Electron beam lithography using a PMMA/P(MMA 8.5 MAA) bilayer for negative tone lift-off process. Journal of Vacuum Science & Technology B: Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena, 33(6), 061602 (5 pages). https://doi.org/10.1116/1.4935129
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