A. P. Blanchard-Dionne et Michel Meunier
Article de revue (2015)
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| Département: | Département de génie physique |
|---|---|
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/34397/ |
| Titre de la revue: | Journal of Vacuum Science & Technology B: Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena (vol. 33, no 6) |
| Maison d'édition: | American Vacuum Society |
| DOI: | 10.1116/1.4935129 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1116/1.4935129 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:06 |
| Dernière modification: | 05 avr. 2024 11:26 |
| Citer en APA 7: | Blanchard-Dionne, A. P., & Meunier, M. (2015). Electron beam lithography using a PMMA/P(MMA 8.5 MAA) bilayer for negative tone lift-off process. Journal of Vacuum Science & Technology B: Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena, 33(6), 061602 (5 pages). https://doi.org/10.1116/1.4935129 |
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