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In situ micro Raman investigation of the laser crystallization in Si thin films plasma enhanced chemical vapor deposition-grown from He-diluted SiH4

Clara Santato, Giorgio Mattei, Wu Ruihua et Federico Mecarini

Article de revue (2004)

Document publié alors que les auteurs ou autrices n'étaient pas affiliés à Polytechnique Montréal

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URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/33679/
Titre de la revue: Journal of Applied Physics (vol. 95, no 10)
Maison d'édition: American Institute of Physics
DOI: 10.1063/1.1699506
URL officielle: https://doi.org/10.1063/1.1699506
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:19
Dernière modification: 18 avr. 2023 15:19
Citer en APA 7: Santato, C., Mattei, G., Ruihua, W., & Mecarini, F. (2004). In situ micro Raman investigation of the laser crystallization in Si thin films plasma enhanced chemical vapor deposition-grown from He-diluted SiH4. Journal of Applied Physics, 95(10), 5366-5372. https://doi.org/10.1063/1.1699506

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