Clara Santato
, Giorgio Mattei, Wu Ruihua, Federico Mecarini
Article de revue (2004)
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Titre de la revue
:
Journal of Applied Physics
(
vol.
95
,
no
10
)
Maison d'édition:
American Institute of Physics
DOI:
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:33679
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:19
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:22
Citer en APA 7:
Santato, C., Mattei, G., Ruihua, W., & Mecarini, F. (2004). In situ micro Raman investigation of the laser crystallization in Si thin films plasma enhanced chemical vapor deposition-grown from He-diluted SiH4. Journal of Applied Physics, 95(10), 5366-5372. https://doi.org/10.1063/1.1699506
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