U. Gruning, S. C. Gujrathi, Suzie Poulin, Y. Diawara et Arthur Yelon
Article de revue (1994)
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| Département: | Département de génie physique |
|---|---|
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/33249/ |
| Titre de la revue: | Journal of Applied Physics (vol. 75, no 12) |
| Maison d'édition: | American Institute of Physics |
| DOI: | 10.1063/1.356550 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1063/1.356550 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:25 |
| Dernière modification: | 05 avr. 2024 11:24 |
| Citer en APA 7: | Gruning, U., Gujrathi, S. C., Poulin, S., Diawara, Y., & Yelon, A. (1994). Remote oxygen-containing hydrogen plasma treatment of porous silicon. Journal of Applied Physics, 75(12), 8075-9. https://doi.org/10.1063/1.356550 |
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