Caractérisation structurale de couches minces de silicium polycristallin fabriquées par dépôt chimique en phase vapeur sous basse pression du SiH₄ et dopées en phosphore in situ

Geneviève Beïque, Mario Caron, John F. Currie, Michel Meunier

Article de revue (1995)

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Titre de la revue :
Canadian Journal of Physics ( vol. 73 , no 7-8 )
Maison d'édition:
Canadian Science Publishing
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:32588
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Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:24
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:20
Citer en APA 7:
Beïque, G., Caron, M., Currie, J. F., & Meunier, M. (1995). Caractérisation structurale de couches minces de silicium polycristallin fabriquées par dépôt chimique en phase vapeur sous basse pression du SiH₄ et dopées en phosphore in situ. [Structural characterization of polysilicon thin-films fabricated by low-pressure chemical-deposition of silane and doped in-situ with phosphorus]. Canadian Journal of Physics, 73(7-8), 526-529. https://doi.org/10.1139/p95-076

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