S. Boughaba, Edward Sacher et Michel Meunier
Communication écrite (1995)
Un lien externe est disponible pour ce documentDépartement: | Département de génie physique |
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URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/31472/ |
Nom de la conférence: | MRS Fall Symposium |
Lieu de la conférence: | Boston, MA, USA |
Date(s) de la conférence: | 1995-11-27 - 1995-11-30 |
Maison d'édition: | Materials Research Society |
DOI: | 10.1557/proc-397-497 |
URL officielle: | https://doi.org/10.1557/proc-397-497 |
Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:24 |
Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:13 |
Citer en APA 7: | Boughaba, S., Sacher, E., & Meunier, M. (novembre 1995). CO₂ laser cleaning of hydrophilic oxidized silicon surfaces [Communication écrite]. MRS Fall Symposium, Boston, MA, USA. https://doi.org/10.1557/proc-397-497 |
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