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Analysis of the x-ray photoelectron spectrum of teflon af 1600

Edward Sacher et Jolanta-Ewa Sapieha

Article de revue (1997)

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Département: Département de génie physique
URL de PolyPublie: https://publications.polymtl.ca/30098/
Titre de la revue: Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films (vol. 15, no 4)
Maison d'édition: American Vacuum Society
DOI: 10.1116/1.580620
URL officielle: https://doi.org/10.1116/1.580620
Date du dépôt: 18 avr. 2023 15:23
Dernière modification: 18 avr. 2023 15:23
Citer en APA 7: Sacher, E., & Sapieha, J.-E. (1997). Analysis of the x-ray photoelectron spectrum of teflon af 1600. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 15(4), 2143-2147. https://doi.org/10.1116/1.580620

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