Analysis of the x-ray photoelectron spectrum of teflon af 1600

Edward Sacher, Jolanta-Ewa Sapieha

Article de revue (1997)

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Titre de la revue :
Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films ( vol. 15 , no 4 )
Maison d'édition:
American Vacuum Society
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:30098
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:23
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:16
Citer en APA 7:
Sacher, E., & Sapieha, J.-E. (1997). Analysis of the x-ray photoelectron spectrum of teflon af 1600. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 15(4), 2143-2147. https://doi.org/10.1116/1.580620

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