Edward Sacher et Jolanta-Ewa Sapieha
Article de revue (1997)
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| Département: | Département de génie physique |
|---|---|
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/30098/ |
| Titre de la revue: | Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films (vol. 15, no 4) |
| Maison d'édition: | American Vacuum Society |
| DOI: | 10.1116/1.580620 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1116/1.580620 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:23 |
| Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:11 |
| Citer en APA 7: | Sacher, E., & Sapieha, J.-E. (1997). Analysis of the x-ray photoelectron spectrum of teflon af 1600. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 15(4), 2143-2147. https://doi.org/10.1116/1.580620 |
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