A. S. da Silva Sobrinho, J. Chasle, G. Dennler et Michael R. Wertheimer
Article de revue (1998)
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| Renseignements supplémentaires: | Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux |
|---|---|
| Département: | Département de génie physique |
| Centre de recherche: | GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/29747/ |
| Titre de la revue: | Plasmas and Polymers (vol. 3, no 4) |
| Maison d'édition: | Kluwer Academic Publishers |
| DOI: | 10.1023/a:1021854805605 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1023/a%3a1021854805605 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:23 |
| Dernière modification: | 08 avr. 2025 02:20 |
| Citer en APA 7: | da Silva Sobrinho, A. S., Chasle, J., Dennler, G., & Wertheimer, M. R. (1998). Characterization of defects in PECVD-SiO₂ coatings on PET by confocal microscopy. Plasmas and Polymers, 3(4), 231-247. https://doi.org/10.1023/a%3a1021854805605 |
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