A. C. Fozza, A. Kruse, A. Holländer, A. Ricard et Michael R. Wertheimer
Article de revue (1998)
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| Renseignements supplémentaires: | Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux |
|---|---|
| Département: | Département de génie physique |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/29686/ |
| Titre de la revue: | Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films (vol. 16, no 1) |
| Maison d'édition: | American Vacuum Society |
| DOI: | 10.1116/1.581014 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1116/1.581014 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:23 |
| Dernière modification: | 08 avr. 2025 02:20 |
| Citer en APA 7: | Fozza, A. C., Kruse, A., Holländer, A., Ricard, A., & Wertheimer, M. R. (1998). Vacuum Ultraviolet to Visible Emission of Some Pure Gases and Their Mixtures Used for Plasma Processing. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 16(1), 72-77. https://doi.org/10.1116/1.581014 |
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