Vacuum Ultraviolet to Visible Emission of Some Pure Gases and Their Mixtures Used for Plasma Processing

Fozza, A. C.; Kruse, A.; Holländer, A.; Ricard, A.; Wertheimer, Michael R.; Fozza, A. C.; Kruse, A.; Holländer, A.; Ricard, A.; Wertheimer, Michael R.

Vacuum Ultraviolet to Visible Emission of Some Pure Gases and Their Mixtures Used for Plasma Processing

A. C. Fozza, A. Kruse, A. Holländer, A. Ricard, Michael R. Wertheimer

Article de revue (1998)

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Renseignements supplémentaires:

Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux

Département:

Département de génie physique

Adresse URL de PolyPublie:

https://publications.polymtl.ca/29686/

Titre de la revue :

Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films ( vol. 16 , no 1 )

Maison d'édition:

American Vacuum Society

DOI:

10.1116/1.581014

URL officielle:

https://doi.org/10.1116/1.581014

OAI:

oai:publications.polymtl.ca:29686

ORCID

Date du dépôt:

18 avr. 2023 15:23

Dernière modification:

14 oct. 2026 13:07

Citer en APA 7:

Fozza, A. C., Kruse, A., Holländer, A., Ricard, A., & Wertheimer, M. R. (1998). Vacuum Ultraviolet to Visible Emission of Some Pure Gases and Their Mixtures Used for Plasma Processing. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 16(1), 72-77. https://doi.org/10.1116/1.581014

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