S. Leclerc, A. Lecours, M. Caron, E. Richard, G. Turcotte, John F. Currie
Article de revue (1998)
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Renseignements supplémentaires:
Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux
Département:
Adresse URL de PolyPublie:
Titre de la revue
:
Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films
(
vol.
16
,
no
2
)
Maison d'édition:
American Vacuum Society
DOI:
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:29528
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:23
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:07
Citer en APA 7:
Leclerc, S., Lecours, A., Caron, M., Richard, E., Turcotte, G., & Currie, J. F. (1998). Electron Cyclotron Resonance Plasma Chemical Vapor Deposited Silicon Nitride for Micromechanical Applications. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 16(2), 881-884. https://doi.org/10.1116/1.581028
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