Shu Ran Sheng, X. B. Liao, G. L. Kong, H. X. Han
Article de revue (1998)
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Renseignements supplémentaires:
Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux
Département:
Adresse URL de PolyPublie:
Titre de la revue
:
Applied Physics Letters
(
vol.
73
,
no
3
)
Maison d'édition:
American Institute of Physics
DOI:
URL officielle:
OAI:
oai:publications.polymtl.ca:29326
ORCID
Date du dépôt:
18 avr. 2023 15:23
Dernière modification:
14 oct. 2026 13:06
Citer en APA 7:
Sheng, S. R., Liao, X. B., Kong, G. L., & Han, H. X. (1998). Study of Microstructure of High Stability Hydrogenated Amorphous Silicon Films by Raman Scattering and Infrared Absorption Spectroscopy. Applied Physics Letters, 73(3), 336-338. https://doi.org/10.1063/1.121826
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