A. S. D. Sobrinho, N. Schühler, Jolanta-Ewa Sapieha
, Michael R. Wertheimer, M. Andrews et S. C. Gujrathi
Article de revue (1998)
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| Renseignements supplémentaires: | Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux |
|---|---|
| Département: | Département de génie physique |
| Centre de recherche: | GCM - Groupe de recherche en physique et technologie des couches minces |
| URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/29308/ |
| Titre de la revue: | Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films (vol. 16, no 4) |
| Maison d'édition: | American Vacuum Society |
| DOI: | 10.1116/1.581305 |
| URL officielle: | https://doi.org/10.1116/1.581305 |
| Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:23 |
| Dernière modification: | 25 sept. 2024 16:10 |
| Citer en APA 7: | Sobrinho, A. S. D., Schühler, N., Sapieha, J.-E., Wertheimer, M. R., Andrews, M., & Gujrathi, S. C. (1998). Plasma-Deposited Silicon Oxide and Silicon Nitride Films on Poly(Ethylene Terephthalate): a Multitechnique Study of the Interphase Regions. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 16(4), 2021-2030. https://doi.org/10.1116/1.581305 |
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