A. S. D. Sobrinho, N. Schühler, Jolanta-Ewa Sapieha, Michael R. Wertheimer
, M. Andrews et S. C. Gujrathi
Article de revue (1998)
Un lien externe est disponible pour ce documentRenseignements supplémentaires: | Nom historique du département: Département de génie physique et de génie des matériaux |
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Département: | Département de génie physique |
URL de PolyPublie: | https://publications.polymtl.ca/29308/ |
Titre de la revue: | Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films (vol. 16, no 4) |
Maison d'édition: | American Vacuum Society |
DOI: | 10.1116/1.581305 |
URL officielle: | https://doi.org/10.1116/1.581305 |
Date du dépôt: | 18 avr. 2023 15:23 |
Dernière modification: | 05 avr. 2024 11:18 |
Citer en APA 7: | Sobrinho, A. S. D., Schühler, N., Sapieha, J.-E., Wertheimer, M. R., Andrews, M., & Gujrathi, S. C. (1998). Plasma-Deposited Silicon Oxide and Silicon Nitride Films on Poly(Ethylene Terephthalate): a Multitechnique Study of the Interphase Regions. Journal of vacuum science and technology. A, Vacuum, surfaces, and films, 16(4), 2021-2030. https://doi.org/10.1116/1.581305 |
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